信頼と実績 PVD CVD コーティングシリーズ
お客様の多種多様なニーズに応えるべく、さまざまな特徴を有したコーティングをご用意しております。
■Hi-MAD処理 HiMAD-EX
■TRIALMAD アルミ上での研磨
MAD処理面は、ダイヤモンドペーストによる擦過に対しても母材の削れが発生せず、未処理面と比較して顕著な耐摩耗性の向上が確認されました。
本処理は膜ではなく拡散処理であるため、寸法変化を抑えながら高硬度化（HV2000レベル）を実現し、精密部品への適用に有効です。
■HV-DLC 高負荷対応 コーティング
複合多層構造の改善により耐荷重性能が向上 新プラズマ源採用で従来より低温処理が可能 量産時のプロセスの信頼性が向上 最大処理寸法φ350×500mmです。
信頼と15年の実績
PVD CVD コーティングシリーズ
お客様の多種多様なニーズに応えるべく、さまざまな特徴を有したコーティングをご用意しております。
ta-C X 高硬度 DLC
高硬度水素フリーDLCコーティング
500mmの長さまで処理可能
150℃以下の低温処理
多様な材質に処理が可能
高い表面平滑性
CVD-SiC
化学蒸着炭化ケイ素
2mm以上の高純度SiCの厚膜可能
微細CVD-SiC結晶膜が可能
大型製品への処理が可能
多数の実績
MAD処理
マッド処理
独自のプラズマ処理による表面改質
剥離の心配は不要
200℃以下の低温処理
CrNコーティング及びクロムメッキ上への処理で性能向上
株式会社インターフェイス
PVD、CVDコーティングのエキスパート集団
最新表面処理技術やその応用を国内外に提供
金属・セラミックス等への表面処理受託加工
CVDによるSiCコート
CVDによるTi系コート
MAD処理による耐磨耗、耐食コート
PVDによるDLCコート
PVDによるta-Cコート
CVD、PVD装置設計、製造、開発
真空装置の設計
ガス供給装置の設計
コーティング装置設計製作
ご希望と用途に合わせた表面処理装置の製作・設計が可能です。 ご希望価格に合わせて装置の設計製作をいたします。
アーク放電式PVD装置
アークイオンプレーティング方式によるコーティング装置。独自開発のドロップレッドを低減するシステムにより、高い密着性を維持しながら ホローカソード式に匹敵する表面粗さを実現。 ta-C、DLC、Ti系、Cr系の成膜が可能。
CVD Ti 系装置
弊社CVD-Ti系膜はクロムメッキや軟窒化法に比べて、耐摩耗性・耐熱性・耐蝕性及び、 耐剥離性に優れ、治工具類ではその耐用寿命を飛躍的に延ばすことができます。コーティング膜はTiC、TiN等の単層コーティングに加えて、TiC+TiN等の多層膜コーティングも取りそろえております。
CVD-SiC装置
インターフェイスCVD SiC(化学蒸着法炭化ケイ素)は高硬度、耐熱性に優れた半導体特性を持つ薄膜です。 弊社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、高純度のSiC膜を最大２ｍｍ以上析出してバルクのSiCを作成しております。
DLCコーティング装置
炭化水素ガスを熱フィラメントでイオン化する装置。 電源をメーカー市販の電源を用いて、驚異の低価格。 コーティング受託処理実績によるノウハウご希望と用途に合わせたDLC装置の設計製作が可能です。 希望価格に合わせて装置の設計製作をいたします。